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            • GMD2000布洛芬小兒口服混懸液分散膠體磨
              布洛芬小兒口服混懸液分散膠體磨

              布洛芬小兒口服混懸液分散膠體磨,主要用于微乳液及超細(xì)懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時(shí)工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同的工藝應(yīng)用。

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            • GMD2000羥丙甲基纖維素膠體磨
              羥丙甲基纖維素膠體磨

              SGN羥丙甲基纖維素膠體磨為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

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            • GMD2000口服液改良型膠體磨
              口服液改良型膠體磨

              SGN口服液改良型膠體磨采用分體式結(jié)構(gòu),zui高轉(zhuǎn)速可達(dá)18000rpm是普通膠體磨的4-5倍。在醫(yī)藥混懸液、乳液制備中有突出的應(yīng)用,如:口服液、阿苯達(dá)挫混懸液、頭孢克肟混懸液等,粒徑一般都可細(xì)化至DN90≤10μm。

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            • GMD2000膨脹石墨石蠟復(fù)合相變材料研磨機(jī)
              膨脹石墨石蠟復(fù)合相變材料研磨機(jī)

              膨脹石墨石蠟復(fù)合相變材料研磨機(jī)是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn),添加了分散機(jī)的分散盤,使其在膠體磨研磨轉(zhuǎn)子的高速研磨作用下瞬間進(jìn)入分散盤中進(jìn)行高剪切分散,由于在整個(gè)過程中除了有高速研磨作用及高剪切分散作用下,物料還承受著高頻的液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等多種作用力。

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            • GMD2000高速涂料二氧化硅分散機(jī)
              高速涂料二氧化硅分散機(jī)

              高速涂料二氧化硅分散機(jī)有一定輸送能力,對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼。

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            • GMD2000電池隔膜超高速研磨分散機(jī)
              電池隔膜超高速研磨分散機(jī)

              電池隔膜超高速研磨分散機(jī)的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

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            • GMD2000納米材料增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機(jī)
              納米材料增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機(jī)

              納米材料增韌氧化鋁陶瓷研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

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            • GMD2000高速肌底液剪切研磨分散機(jī)
              高速肌底液剪切研磨分散機(jī)

              高速肌底液剪切研磨分散機(jī)主要應(yīng)用于處理大量乳液和生成超細(xì)懸乳液。由于同時(shí)用三個(gè)工作頭(轉(zhuǎn)子和定子)進(jìn)行處理,可獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,因而生成的混合液的穩(wěn)定性更好。分散頭容易更換,適合于各種不同的應(yīng)用。

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